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XPS in-depth characterization of annealed ultra-thin InxAl1-xN layers on GaN for HEMT applications

Title: XPS in-depth characterization of annealed ultra-thin InxAl1-xN layers on GaN for HEMT applications
Authors: Bourlier, Yoan; Bouttemy, Muriel; Frégnaux, Mathieu; Patard, Olivier; Gamarra, Piero; Piotrowicz, Stéphane; Vigneron, Jackie; Aubry, Raphaël.; Delage, Sylvain; Etcheberry, Arnaud
Contributors: Institut Lavoisier de Versailles (ILV); Université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines (UVSQ)-Institut de Chimie - CNRS Chimie (INC-CNRS)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS); Microelectronic GaN, III-V Lab, Campus Polytechnique, 1, avenue Augustin Fresnel, 91767 Palaiseau Cédex; Alcatel-Thales III-V Lab (III-V Lab); THALES France; Thales Research and Technology Palaiseau
Source: ECASIA 18th ; https://hal.science/hal-04404063 ; ECASIA 18th, Sep 2019, Dresde, Germany
Publisher Information: CCSD
Publication Year: 2019
Collection: Université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines: HAL-UVSQ
Subject Terms: [CHIM]Chemical Sciences
Subject Geographic: Dresde; Germany
Description: International audience
Document Type: conference object
Language: English
Availability: https://hal.science/hal-04404063
Accession Number: edsbas.B2ECDC1
Database: BASE