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Advanced Metal-Assisted Chemical Etching Using HF Vapor and Ozone for MEMS Process

Title: Advanced Metal-Assisted Chemical Etching Using HF Vapor and Ozone for MEMS Process
Authors: Cho, Hyein; Ahn, Yebin; Hong, Sang Beom; Park, Soohyeok; Han, Yejin; Kim, Geonhwi; Song, Eunjeong; Choi, Ye Ji; Jang, So Eun; Youn, Duck Hyun; Shin, Hyeyoung; Um, Han-Don
Source: 2024 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) Electron Devices Meeting (IEDM), 2024 IEEE International. :1-4 Dec, 2024
Relation: 2024 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)
Database: IEEE Xplore Digital Library