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Highly Scaled FRAM Technology in 22FDX® Achieving Sub 1 V Operation

Title: Highly Scaled FRAM Technology in 22FDX® Achieving Sub 1 V Operation
Authors: Muller, F.; Iurchuk, V.; Viegas, A.; Yadav, N.; Syndikus, J.; Seidel, R.; Lehninger, D.; Hoffmann, R.; Olivo, R.; Mutter, J.; Mulaosmanovic, H.; Seidel, K.; Kampfe, T.; Muller, J.; Soss, S.; Beyer, S.; Lederer, M.
Source: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) Electron Devices Meeting (IEDM), 2025 IEEE International. :1-4 Dec, 2025
Relation: 2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM)
Database: IEEE Xplore Digital Library