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Impact of Cell Orientation on 1.2 kV 4H-SiC MOSFETs with Channeling Implanted Deep P-well

Title: Impact of Cell Orientation on 1.2 kV 4H-SiC MOSFETs with Channeling Implanted Deep P-well
Authors: Mudiyanselage, Dinuth C. Y. B. Yapa; DeBoer, Skylar; Mancini, Stephen A.; Lynch, Justin; Jang, Seung Yup; Morgan, Adam J.; Sung, Woongje
Source: 2026 IEEE 38th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD) Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD), 2026 IEEE 38th International Symposium on. :509-512 May, 2026
Relation: 2026 IEEE 38th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD)
Database: IEEE Xplore Digital Library