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Effects of drain to gate stress on NMOSFET with polysilicon/Hf-silicate gate stack

Title: Effects of drain to gate stress on NMOSFET with polysilicon/Hf-silicate gate stack
Authors: Choi, R.; Lee, B.H.; Young, C.D.; Sim, J.H.; Mathews, K.; Bersuker, G.; Zeitzoff, P.
Source: IEEE International Integrated Reliability Workshop Final Report, 2004 Integrated reliability workshop Integrated Reliability Workshop Final Report, 2004 IEEE International. :128-131 2004
Relation: 2004 IEEE International Integrated Reliability Workshop Final Report
Database: IEEE Xplore Digital Library