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The Applied Materials xRLEAP ion implanter for ultra shallow junction formation

Title: The Applied Materials xRLEAP ion implanter for ultra shallow junction formation
Authors: England, J.; Joyce, L.; Burgess, C.; Moffatt, S.; Foad, M.; Armour, D.; Current, M.
Source: Proceedings of 11th International Conference on Ion Implantation Technology Ion implantation technology Ion Implantation Technology. Proceedings of the 11th International Conference on. :470-473 1996
Relation: Proceedings of 11th International Conference on Ion Implantation Technology
Database: IEEE Xplore Digital Library