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Modeling of capillary discharge plasma for x-ray lasers, XUV lithography and other applications

Title: Modeling of capillary discharge plasma for x-ray lasers, XUV lithography and other applications
Authors: Shlyaptsev, V.N.; Dunn, J.; Moon, S.J.; Fournier, K.B.; Osterheld, A.L.; Rocca, J.J.; Filevich, J.; Marconi, M.; Jankowska, E.; Hammarsten, E. C.; Sakadzic, S.; Rahman, A.; Frati, M.; Tomasel, F.G.; Fornaciari, N.; Buchenauer, D.; Bender, H.A.; Karim, S.; Kanouff, M.; Dimkoff, J.; Kubiak, G.; Shimkaveg, G.; Silfvast, W.T.
Source: 2002 14th International Conference on High-Power Particle Beams (BEAMS) High-Power Particle Beams (BEAMS), 2002 14th International Conference on. 2:416-419 Jun, 2002
Relation: 2002 14th International Conference on High-Power Particle Beams (BEAMS)
Database: IEEE Xplore Digital Library