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Nanosecond Laser Annealing for Phosphorous Activation in Ultra-Thin Implanted Silicon-On-Insulator Substrates

Title: Nanosecond Laser Annealing for Phosphorous Activation in Ultra-Thin Implanted Silicon-On-Insulator Substrates
Authors: Acosta Alba, P.; Kerdiles, S.; Mathieu, B.; Kachtouli, R.; Mazzamuto, F.; Toque-Tresonne, I.; Huet, K.; Besson, P.; Veillerot, M.; Aussenac, F.; Fenouillet-Beranger, C.
Source: 2016 21st International Conference on Ion Implantation Technology (IIT) Ion Implantation Technology (IIT), 2016 21st International Conference on. :1-4 Sep, 2016
Relation: 2016 21st International Conference on Ion Implantation Technology (IIT)
Database: IEEE Xplore Digital Library