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Gate architecture design for enhancement mode p-GaN gate HEMTs for 200 and 650V applications

Title: Gate architecture design for enhancement mode p-GaN gate HEMTs for 200 and 650V applications
Authors: Posthuma, N. E.; You, S.; Stoffels, S.; Liang, H.; Zhao, M.; Decoutere, S.
Source: 2018 IEEE 30th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD) Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD), 2018 IEEE 30th International Symposium on. :188-191 May, 2018
Relation: 2018 IEEE 30th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD)
Database: IEEE Xplore Digital Library