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First Demonstration of Ruthenium and Molybdenum Word lines Integrated into 40nm Pitch 3D-NAND Memory Devices

Title: First Demonstration of Ruthenium and Molybdenum Word lines Integrated into 40nm Pitch 3D-NAND Memory Devices
Authors: Ajaykumar, A.; Breuil, L.; Katcko, K.; Schleicher, F.; Sebaai, F.; Oniki, Y.; Ramesh, S.; Arreghini, A.; Nyns, L.; Soulie, J. -P.; Stiers, J.; den Bosch, G. Van; Rosmeulen, M.
Source: 2021 Symposium on VLSI Technology VLSI Technology, 2021 Symposium on. :1-2 Jun, 2021
Relation: 2021 Symposium on VLSI Technology
Database: IEEE Xplore Digital Library