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Intermetallic Growth and Void Formation Mechanism in Flip Chip Copper Pillar Interconnects: Role of the Underfill Material

Title: Intermetallic Growth and Void Formation Mechanism in Flip Chip Copper Pillar Interconnects: Role of the Underfill Material
Authors: Wang, Miao; Uehling, Trent; Mavinkurve, Amar; Uehling, Paige; Ahmed, Sudan; Foong, Cs
Source: 2021 IEEE 23rd Electronics Packaging Technology Conference (EPTC) Electronics Packaging Technology Conference (EPTC), 2021 IEEE 23rd. :121-125 Dec, 2021
Relation: 2021 IEEE 23rd Electronics Packaging Technology Conference (EPTC)
Database: IEEE Xplore Digital Library