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Infrared interface analysis of high-k dielectrics deposited by atomic layer chemical vapour deposition

Title: Infrared interface analysis of high-k dielectrics deposited by atomic layer chemical vapour deposition
Authors: Cosnier, V.; Bender, H.; Caymax, A.; Chen, J.; Conard, T.; Nohira, H.; Richard, O.; Tsai, W.; Vandervorst, W.; Young, E.; Zhao, C.; De Gendt, S.; Heyns, A.; Maes, J.W.H.; Tuominen, M.; Rochat, N.; Olivier, M.; Chabli, A.
Source: Extended Abstracts of International Workshop on Gate Insulator. IWGI 2001 (IEEE Cat. No.01EX537) Gate insulator Gate Insulator, 2001. IWGI 2001. Extended Abstracts of International Workshop on. :226-229 2001
Relation: Extended Abstracts of International Workshop on Gate Insulator. IWGI 2001
Database: IEEE Xplore Digital Library